پایان نامه : بررسی چگونگی و بهینه سازی فرایند پولیشكاری ساچمههای سرامیكیSi3N4 به كار رفته در بلبرینگ به روش پولیشكاری به كمك میدان مغناطیسی Magnetic Float Polishing |
Polishing
- یاتاقانهای غلتشی فولادی……………………………………………………………………………………………………………..3
- محدودیتهای كاربردی یاتاقانهای فولادی……………………………………………………………………………………….3
- یاتاقانهای غلتشی سرامیكی…………………………………………………………………………………………………………..5
فصل دوم:پیشینه تحقیق………………………………………………………………………………………………………………………………………….8
فصل سوم:تئوری مطالب
- پولیشكاری مغناطیسی شناور (MFP)………………………………………………………………………………………………17
- پولیشکاری شیمیایی-مکانیکی(CMP)……………………………………………………………………………………………21
- انتخاب ماده ساینده در پولیشکاری شیمیایی-مکانیکی (CMP) سرامیک Si3N4…………………………………….24
- واکنش بین ذرات ساینده و قطعهکار………………………………………………………………………………………………..28
- تاثیر شرایط محیطی پولیشکاری……………………………………………………………………………………………………32
فصل چهارم: طراحیتجهیزات آزمایشات
- مقدمه……………………………………………………………………………………………………………………………………………35
- تجهیزات مکانیکی…………………………………………………………………………………………………………………………..35
- محفظه آهنربا……………………………………………………………………………………………………………………………36
- اسپیندل……………………………………………………………………………………………………………………………………37
- دیواره……………………………………………………………………………………………………………………………………….38
- صفحه معلق……………………………………………………………………………………………………………………………….40
- نوار لاستیکی……………………………………………………………………………………………………………………………..41
- تجهیزات الکتریکی………………………………………………………………………………………………………………………….43
- آهنربای الکتریکی………………………………………………………………………………………………………………………43
- قانون بیووساوار…………………………………………………………………………………………………………………………..44
- میدان مغناطیسی نزدیک حلقه جریان……………………………………………………………………………………………..44
- نقش هسته در آهنربای الکتریکی…………………………………………………………………………………………………..50
- طراحی آهنربای الكتریكی…………………………………………………………………………………………………………….51
فصل پنجم : تهیه و ساخت تجهیزات
- مقدمه……………………………………………………………………………………………………………………………………………56
- آهن ربای الکتریکی…………………………………………………………………………………………………………………………56
- ساچمههای سرامیکی Si3N4…………………………………………………………………………………………………………..59
فصل ششم : انجام آزمایشات
- مقدمه………………………………………………………………………………………………………………………………………….61
- عوامل موثر در فرایند………………………………………………………………………………………………………………………61
- پودر ساینده…………………………………………………………………………………………………………………………………………………….61
- سختی…………………………………………………………………………………………………………………………………62
- آزمونسختیالاستیك: (سختیبرگشتیاانعكاس )………………………………………………………………………………63
2.1.1.2.6آزمونسختیخراش : (مقاومتدربرابربرشیاس…………………………………………………………………………………63
3.1.1.2.6آزمونسختیفرورفتگی : (مقاومتدربرابرفرورفتگی)……………………………………………………………………………..63
- اندازه ذرات…………………………………………………………………………………………………………………………….66
- جنس ذرات……………………………………………………………………………………………………………………………67
1.3.1.2.6کاربید سیلیکون(SiC)……………………………………………………………………………………………………………….67
2.3.1.2.6کاربید بور(B4C)……………………………………………………………………………………………………………………..69
3.3.1.2.6اکسید سریم CeO2…………………………………………………………………………………………………………………71
- سرعت چرخش اسپیندل……………………………………………………………………………………………………………….73
- مدت زمان پولیش کاری……………………………………………………………………………………………………………….74
- نیروی وارد بر هر ساچمه……………………………………………………………………………………………………………….74
- نحوه اعمال نیرو………………………………………………………………………………………………………………………74
- انتخاب مقادیر نیروی اعمال شده…………………………………………………………………………………………………..75
- نحوه اندازه گیری نیروی اعمال بر ساچمه ها……………………………………………………………………………………..75
3.6 طراحی آزمایشات…………………………………………………………………………………………………………………………….76
فهرست مراجع………………………………………………………………………………………………………………………………………..79
فهرست اشكال:
شكل (1-3) : جهت نیروی وارده بر جسم غیر مغناطیسی……………………………………………………………………………..18
شكل (2-3) : شماتیک روشMFP……………………………………………………………………………………………………………19
شکل(3-3) شماتیکی از منطقه تماس در CMP…………………………………………………………………………………………..29
شکل(1-4): الف)درپوش محفظه، ب)محفظه………………………………………………………………………………………………..37
شکل(2-4): اسپیندل…………………………………………………………………………………………………………………………………38
شکل(3-4): دیواره……………………………………………………………………………………………………………………………………..39
شکل(4-4): صفحه معلق اكریلیكی………………………………………………………………………………………………………………40
شکل(5-4): نوار لاستیكی…………………………………………………………………………………………………………………………..41
شکل(6-4): مدل مونتاژ شده تجهیزات مكانیكی…………………………………………………………………………………………….42
شکل(7-4): میدان ناشی از عبور جریان از سیم حلقوی…………………………………………………………………………………..45
شکل(8-4): اندازه ابعادی سیم پیچ و هسته ………………………………………………………………………………………………….52
شکل(9-4): طرح کلی آهن ربای الکتریکی همراه با کنترلر……………………………………………………………………………..53
شکل(10-4): نحوه پراکندگی خطوط میدان در اطراف سیم پیچ …………………………………………………………………………….54
شکل(1-5): آهن ربای الكتریكی همراه با ورودی جریان………………………………………………………………………………….56
شکل(2-5): آهن ربای الكتریكی………………………………………………………………………………………………………………….57
شکل(3-5): واحد كنترلر آهن ربای الكتریكی………………………………………………………………………………………………..57
شکل(4-5): مجموعه تجهیزات الكتریكی………………………………………………………………………………………………………58
شکل(5-5): ساچمه های سرامیكیSi3N4 …………………………………………………………………………………………………………………..59
فهرست جداول و نمودارها:
جدول (1-3): ذرات سایندهای كه معمولا برای پولیشكاریSi3N4 استفاده میشوند………………………………………..25
جدول (1-6):خواص فیزیکی و مکانیکی SiC……………………………………………………………………………………………….68
جدول (2-6): خواص فیزیکی و مکانیکیB4C………………………………………………………………………………………………70
فرم در حال بارگذاری ...
[دوشنبه 1399-10-01] [ 07:14:00 ب.ظ ]
|